
馬爾文帕納科即將參加11月11-14日在廈門舉行的第十一屆國際第三代半導(dǎo)體論壇,屆時(shí)將展示從晶體生長到芯片封裝全流程的馬爾文帕納科半導(dǎo)體行業(yè)解決方案,涉及XRD、XRF、激光衍射、靜態(tài)圖像、納米跟蹤技術(shù)、動(dòng)態(tài)光散射及電泳光散射技術(shù)。大中華區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)理還將在“氮化物材料生長及光電技術(shù)分會(huì)場”作題為“X射線衍射技術(shù)于半導(dǎo)體薄膜之研究應(yīng)用”的主題報(bào)告。期待與本次論壇與會(huì)嘉賓深入交流。
時(shí)間:2025年11月11-14日
地點(diǎn):廈門泰地萬豪酒店
報(bào)告時(shí)間:11月13日 / 14:00-17:30
馬爾文帕納科報(bào)告時(shí)間
11月13日 14:00-17:30
氮化物材料生長及光電技術(shù)分會(huì)場
X射線衍射技術(shù)于半導(dǎo)體薄膜之研究應(yīng)用
——鐘明光
大中華區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)理
半導(dǎo)體行業(yè)解決方案

單晶定向儀
10秒內(nèi)完成晶錠/晶圓的晶體定向,精度達(dá)到0.003°

高分辨XRD
外延薄膜,多晶薄膜和非晶薄膜分析;
晶圓分析儀
元素濃度檢測,薄膜均勻性

激光粒度儀
光刻膠主成分樹脂粒度分布;磨料主成分粒度分布;控制封裝用環(huán)氧樹脂或陶瓷填料的粒度分布
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靜態(tài)粒度粒形分析儀
圖像法測定金剛石磨料的粒度粒形信息并提供統(tǒng)計(jì)性結(jié)果

納米顆粒跟蹤分析儀
快速篩查光刻膠中亞微米級污染物;清洗液中的顆粒物數(shù)量分析

納米粒度及電位儀
測定磨料主成分的粒度分布;測量漿料Zeta電位,防止團(tuán)聚
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